ГАЛЬВАНОТЕХНИКА
570кДж/моль (при Гкып); 5° —43,55 Дж/(моль-К). Попереч-
ное сечение захвата медленных нейтронов 118 барн. По хим. св-вам очень близок цирконию. Степень окисл. + 4, реже + 3, +2, +1. Получ. попутно с Zr, Примен.: материал для регулирующих стержней и защитных экранов ядерных реак¬торов, электродов плазмотронов; геттер; компонент спла¬вов; искусств, радиоакт. изотопы 175НцТ^270 сут) и lslHf (Ту2 42,3 сут) — индикаторы в науч. исследованиях. Миро-воепроиз-во(без СССР)ок. 40т/год. Г. А. Ягодин, Э. Г. Раков. ГАФНИЯ ДИБОРИД HfB2, серые крист. с металлич. бле¬ском; гпл 3250 "С; не раств. в воде и орг. р-рителях. Получ. взаимод. Hf02 с В или В*С в вакууме при 1600—1700 °С. Компонент сплавов для регулирующих стержней в ядерных реакторах, а также жаропрочных сплавов, керамики и огне¬упоров.
ГАФНИЯ ДИОКСИД НЮ2, Г„л 2780 "С, Гк„„ ок. 5400 "С; ие раств. в воде, раств. в HF-кислоте и H2SC>4. Получ. про¬каливанием гидроксида Hf или его термически нестойких солей, напр. нитратов. Примен.: для изготовления регули-