Отверждение расплавов
At2; благодаря большому числу зародышей и малой скорости их роста образу¬ется твердый слой с мел¬кокристаллической струк-
Рис. XV-11. Зависимость скоростей образования зародышей «3 и роста кристаллов ср от переохлажде¬ния At.
турой. Этим же объясняется, что при охлаждении расплава в форме периферийные слои, образующиеся при больших значениях At, имеют в сравнении с центральными слоями более мелкую струк¬туру. Отверждение расплавов относится к числу нестационарных процессов теплообмена, протекающих в граничных условиях 1-го или 3-го рода при наличии внутреннего источника тепла (теплота кристаллизации). Математическое описание этого про¬цесса, приводящее к весьма сложным уравнениям для расчета его продолжительности, изложено в специальных монографиях по теории и технике кристаллизации расплавов.
Конструкции аппаратов для отверждения расплавов соответ¬ственно свойствам последних и требованиям к конечному продукту весьма разнообразны. Мы рассмотрим ниже наиболее распростра¬ненные аппараты.